Электронная почта

doris@megmachemical.com

WhatsApp

+8619812643808

CAS NO:157057-20-0 PEES/4-(этоксиэтокси)стирол

CAS NO:157057-20-0 PEES/4-(этоксиэтокси)стирол

Молекулярная формула: C12H16O2
Молекулярный вес: 192,25
Применение: PEES в основном используется для синтеза смол фоторезиста KrF в полупроводниковой микроэлектронике, полимерных материалах с функциональными блоками и материалах для нано-самосборочной литографии.
Отправить запрос
Описание
Технические параметры

 

Описание продукции

 

PEES (pEES) несет кислотолабильную этоксиэтоксизащитную группу, с которой можно быстро снять защиту под действием кислотного катализа. Он отличается хорошей термической стабильностью и сверхнизким содержанием металлических примесей. Его можно полимеризовать для получения полигидроксистирола (PHS) для химически амплифицированного фоторезиста KrF высокого разрешения.

 

Спецификация продукции

 

Название продукта PEES/4-(этоксиэтокси)стирол
№ КАС 157057-20-0
ПУНКТ № M120
Появление Бесцветная прозрачная жидкость
Чистота Больше или равно 99%
Содержание воды Меньше или равно 0,05 %
Примеси ионов металлов Меньше или равно 1 ppb
Упаковка 100 г/1 кг/10 кг и т. д.
Доставка 2-3 дня
Хранилище комнатная температура
Паспорт безопасности/сертификат подлинности/TDS Подключите нас

 

Применение продуктов

 

ПЭЭС (п-(1-этоксиэтокси)стирол) в основном используется для синтеза фоторезистивных смол KrF в полупроводниковой микроэлектронике, функциональных полимерных материалах и в области исследований и разработок новых передовых материалов.

 

product-3500-1205

 

 

Часто задаваемые вопросы

 

Вопрос: Каковы требования к хранению PEES?

A: Стабилизировано ингибитором ТБЦ. Хранить запечатанным при температуре 2–8 градусов от света. Изолируйте воздух и источник тепла, чтобы предотвратить самополимеризацию винила и преждевременное снятие защиты кислотой.

Вопрос: Каков принцип мономера PEES в системе фоторезистивной смолы KrF?

A: PEES содержит чувствительную к кислоте этоксиэтокси-защитную группу. Фотокислота, образующаяся после воздействия литографии, вызывает снятие защиты. Смола меняется с нерастворимой в щелочи на растворимую в щелочи, чтобы обеспечить формирование рисунка пластины.

Вопрос: Какая защита требуется для работы PEES согласно Паспорту безопасности?

Ответ: Раздражает глаза, кожу и дыхательные пути. Работу следует проводить в вытяжном шкафу с очками, перчатками, устойчивыми к растворителям, и защитной маской.

Вопрос: В чем основная разница между фоторезистными мономерами PEES и pACS/PTBS?

A: PEES имеет этоксиэтокси-защитную группу с быстрой скоростью снятия кислотной защиты. pACS нуждается в гидролизе для снятия защиты, PTBS имеет трет-бутоксигруппу. Они рассчитаны на разную чувствительность фоторезиста.

Вопрос: Что происходит с кислотолабильной защитной группой мономера ПЭЭС во время воздействия фоторезиста KrF?

Ответ: При воздействии образуется фотокислота. Этоксиэтоксизащитная группа быстро расщепляется. Полимер превращается в фенольную гидроксильную структуру, меняя структуру с нерастворимой в щелочи на растворимую в щелочи для развития литографического рисунка.

 

горячая этикетка : номер cas: 157057-20-0 моча/4-(этоксиэтокси)стирол, Китай номер cas: 157057-20-0 моча/4-(этоксиэтокси)стирол производители, поставщики